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我們的優(yōu)勢|磁控濺射

更新時間:2019-08-26      瀏覽次數(shù):1969

NANO-MASTER設(shè)計制造的磁控濺射系統(tǒng)在行業(yè)內(nèi)有*的競爭力,設(shè)備擁有以下突出的優(yōu)勢:

1. 計算機全自動控制的自動上下片,上面和對準(zhǔn)的過程全部通過計算機控制,無需人工操作,并且不會損傷系統(tǒng);

2. 全自動膜厚監(jiān)控,客戶可以在軟件設(shè)定目標(biāo)膜厚,整個工藝階段可以實現(xiàn)無人值守,無需人工介入,薄膜膜厚具有高度的重復(fù)性;

3. 出色的膜厚均勻度,對于6"片范圍內(nèi),濺射金屬膜時,可以達(dá)到優(yōu)于+/-1%的均勻度;

4. 系統(tǒng)可以支持濺射前的等離子預(yù)清洗功能,提供優(yōu)異的膜基層性能;

5. 系統(tǒng)支持預(yù)濺射,可以去除靶材的污染物后再打開遮板,實現(xiàn)高純膜濺射;

6. 全自動的工藝控制,提供20"的觸摸屏監(jiān)控屏幕,可以保存不限數(shù)量的程序,每個程序支持1-100個工藝步驟;

7.分子泵與腔體采用直連設(shè)計,可以提供優(yōu)異的真空傳導(dǎo)率。8小時即可達(dá)到5x10-7Torr的極限真空,15分鐘達(dá)到10-6Torr量級的工藝真空;

8. 腔體下游壓力控制,通過計算自動控制分子泵的渦輪速度,實現(xiàn)腔體下游壓力的全自動調(diào)節(jié),快速穩(wěn)定;

9. 緊湊型設(shè)計,包含自動上下片單元的主機總占地面積僅26"*42",節(jié)省實驗室寶貴的空間。

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