掩模板清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。
掩模板清洗機(jī)應(yīng)用：
1.帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
2.Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗
3.CMP處理后的晶圓片清洗
4.晶圓框架上的切粒芯片清洗
5.等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
6.帶保護(hù)膜的分劃版清洗
掩模板清洗機(jī)安裝與使用：
1.設(shè)備安裝工程的zui后驗(yàn)收，在設(shè)備調(diào)試合格后進(jìn)行。由設(shè)備管理部門(mén)和工藝技術(shù)部門(mén)會(huì)同其他部門(mén)，在安裝、檢查、安全、使用等各方面有關(guān)人員共同參加下進(jìn)行驗(yàn)收，做出鑒定，填寫(xiě)安裝施工質(zhì)量、精度檢驗(yàn)、安全性能、試車(chē)運(yùn)轉(zhuǎn)記錄等憑證和驗(yàn)收移交單由參加驗(yàn)收的各方人員簽字方可竣工。
2.設(shè)備開(kāi)箱驗(yàn)收、設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)試驗(yàn)記錄單由參加驗(yàn)收的各方人員簽字后及隨設(shè)備帶來(lái)的技術(shù)文件，由設(shè)備管理部門(mén)納入設(shè)備檔案管理；隨設(shè)備的配件、備品，應(yīng)填寫(xiě)備件入庫(kù)單，送交設(shè)備倉(cāng)庫(kù)入庫(kù)保管。安全管理部門(mén)應(yīng)就安裝試驗(yàn)中的安全問(wèn)題進(jìn)行建檔。
產(chǎn)品分類(lèi)
更新時(shí)間：2023-02-20 
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