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全自動磁控濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6"旋轉(zhuǎn)平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。全自動磁控濺射系統(tǒng)的產(chǎn)品特點：不銹鋼腔體260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵13.56MHz，300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源晶振夾具具有的帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabV...

微波等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機的優(yōu)勢：一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不...

熱真空試驗箱由真空容器、熱沉、真空泵組、冷卻系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、控制及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)及其他特殊需求的機構(gòu)組成。設備采用模塊化設計，可以根據(jù)不同的試驗需求所組合為*適用于用戶的個性化試驗裝置。*的程序化控制單元設計，具有靈活的控制功能，對于典型的試驗*實現(xiàn)了真正意義的自動化控制。熱真空試驗箱的設備特點：真空泵組所用的真空泵和各種配件均采用國際設備，確保設備在整個工作使用范圍內(nèi)均能高效、穩(wěn)定地運行；高強度、高可靠性的結(jié)構(gòu)設計和熱沉設計確保了設備的高可靠性；專門定制的高強度氟橡膠密封條–...

光學鍍膜設備廣泛應用于數(shù)碼科技(成像、顯示、電路、結(jié)構(gòu)裝飾件)，傳統(tǒng)光學、眼鏡，科學儀器、光通信、半導體、新能源等。光學鍍膜設備光學薄膜是建立在光學元件上鍍特定的膜質(zhì)來改變光波傳遞的特性、干涉光的效果達到的效果，高科技改變著人們的生活，光學鍍膜設備自然受到市場青睞，后期將會有更廣闊的前景，那么光學薄膜在光學系統(tǒng)中的啟到哪些作用呢？1、提高光學效率，減少雜光，例如反射鏡鍍制光學薄膜，提高或者減少光的反射效果。高反射鏡只取反射光，盡量減少透射光；減反射鏡減少光學元器件表面的發(fā)射光...

進口晶圓清洗機采用Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。進口晶圓清洗機設備特點：▲可更換清洗吸盤，可使用4-12英寸的清洗吸盤；▲操作程序可按作業(yè)需求編寫調(diào)整，設備運行流程、清洗時間及各項參數(shù)可自行編制；▲設備運行狀態(tài)及參數(shù)在線實時監(jiān)控，自動門配有安全光柵，保證操作安全；▲采用真空吸附式清洗盤，晶元夾具的取放更安全、方便；▲擺臂式清洗，清洗范圍可編制...

等離子體增強MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機物化學氣相沉積),針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環(huán)、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。等離子體增強MOCVD技術特點：臺式系統(tǒng)5個帶獨立冷卻槽的...

光學鍍膜系統(tǒng)的清洗：設備使用一個星期后（三班），因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在水溶液里，水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。最后安裝襯板...

等離子去膠機和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。等離子去膠機的工作原理：等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強的電磁場，使氧氣電離，...