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今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設備，一套設備中實現(xiàn)反應離子刻蝕工藝，同時具備等離子增強化學氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔心的交叉污染問題，又為實驗室節(jié)省了寶貴的空間和預算，是大學院校和科研機構的熱門選擇。NANO-MASTER(那諾-馬斯特)PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到zui大可達12”直徑的基片上,可以通過不同配置實現(xiàn)高速沉積，或控制氮化物薄膜應力，或支持CNT和石...

八月初，深圳先進院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備，NANO-MASTER的工程師們?yōu)樯钲谙冗M院安裝調試實施。本套NSC-3500是帶機械手臂的全自動控制型號，標準配置帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能，zui大到6"旋轉平臺，zui大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。NSC-3500帶有14"立方形不銹鋼腔...

微波等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態(tài)中存在下列物質：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在...

如何保養(yǎng)晶圓清洗機？保養(yǎng)晶圓清洗機的方法有哪些？保養(yǎng)晶圓清洗機注意事項有哪些？下面就由小編為大家總結了一些使用經驗，希望能對大家在養(yǎng)護時得到幫助。日常維護：1、沖洗接入清潔劑的軟管和過濾器，去除任何洗滌劑的殘留物以助于防止腐蝕；2、關斷連接到清洗機上的供水系統(tǒng)；3、扣動伺服噴槍桿上的扳機可以將軟管里全部壓力釋放掉；4、從清洗機上卸下橡膠軟管和高壓軟管；5、切斷火花塞的連接導線以確保發(fā)動機不會啟動(適用于發(fā)動機型)。電動型:將電源開關轉到‘開’和‘關’的位置四到五次每次1-3秒...

兆聲無損清洗設備不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗設備理由是由高頻振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。如何選購兆聲無損清洗設備，隨著“以養(yǎng)代修”理念的深進推廣，為了進步發(fā)...

微波等離子去膠機操作規(guī)程：1、自動切割小車應經空車運轉，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應設有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應立即切斷高頻電路；4、應檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應站在上風處操作?？蓮墓ぷ髋_下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、工件應放在適當位置，并應使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應設有溶渣坑；7、微波等離子去膠機應根據工件材質、種類和...

汽輪機組的熱真空系統(tǒng)是由抽真空系統(tǒng)和密封蒸汽系統(tǒng)兩部分組成，其作用就是用來建立汽輪機組的低背壓，也就是用來建立凝汽器的高真空，使蒸汽能夠zui大限度的把熱焓轉變?yōu)槠啓C的動能。在汽輪機組尚未投入運行時，凝汽器中的真空取決于抽熱真空系統(tǒng)所建立的真空；在汽輪機組投入運行后，抽真空系統(tǒng)只是把泄漏到汽輪機內部的空氣和不凝結氣體及時抽走，凝汽器內的真空主要取決于進入凝汽器內的蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況，而蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況主要取決于凝汽器的換熱面積、循環(huán)冷卻水溫度和循環(huán)水量...

兆聲無損清洗機不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗機的機理是由高能(850kHz)頻振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。兆聲無損清洗機的特點：兆聲能有效地清除亞微細顆粒。兆...