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產(chǎn)品中心/ products
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
聯(lián)系電話:021-62318025
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計,并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節(jié)流閥,一個250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。
NRE-3000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實時顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護(hù)人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式),和全自動執(zhí)行程序模式(操作模式)運行系統(tǒng)?;谌詣拥目刂?,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。
產(chǎn)品特點:
鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400?/min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率,400?/min
高達(dá)12"的陽極氧化鋁RF樣品臺
水冷及加熱的RF樣品臺
大的自偏壓
淋浴頭氣流分布
極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級別
渦輪分子泵
至多支持4個MFC
無繞曲氣體管路
自動下游壓力控制
終點監(jiān)測
氣動升降頂蓋
手動上下載片
基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制
菜單驅(qū)動,4級密碼訪問保護(hù)
*的安全聯(lián)鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺,用于深硅刻蝕
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)型號:
NRE-4000:基于PC計算機(jī)全自動控制的獨立式系統(tǒng),占地面積26“Dx44"W
NRE-3500:基于PC計算機(jī)全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng),占地面積26“Dx26"W
NRE-3000:基于PC計算機(jī)全自動控制的臺式系統(tǒng),占地面積26“Dx26"W
NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)
NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)